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　　金融界2025年8月6日消息，国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“接触孔的制造方法”的专利，公开号CN120432438A，申请日期为2025年04月。

　　专利摘要显示，本发明公开了一种接触孔的制造方法，包括：步骤一、进行刻蚀形成接触孔开口。步骤二、进行第一次钨沉积形成第一钨层，在部分接触孔开口的顶部具有缩颈形貌并形成钨未完全填充的缝隙。步骤三、进行第一次CMP到底层结构的顶部表面之下的第一目标位置，第一次CMP后，缩颈形貌被去除以及缝隙完全打开。步骤四、进行第二次钨沉积形成第二钨层，第二钨层将缝隙完全填充并延伸到缝隙外的表面上。步骤五、进行第二次CMP到第二目标位置，第二目标位置等于或低于第一目标位置，第二次CMP后，缝隙外的第二钨层都被去除，缝隙被第二钨层完全填充。

　　天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2081次，专利信息2359条，此外企业还拥有行政许可344个。

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